QPQ是Quench Polish Quench的縮寫，其原始完整的含意是：工件在液體滲氮（或液體氮碳共滲）并采用氧化鹽浴冷卻后，對表面進行機械拋光或研磨，再經氧化鹽浴表面氧化處理的工藝過程。有的將QPQ處理稱為淬火－拋光－淬火處理，這種理解值得商榷。因為液體滲氮（或液體氮碳共滲）的溫度一般采用530~580℃,低于Fe-N相圖中的共析溫度（約590℃),加熱時不發(fā)生α→γy的轉變過程，冷卻時也不發(fā)生γ→M的轉變過程。
在拋光后再次經過氧化浴時，也只是拋光后的表面氧化過程。始終不發(fā)生淬火過程。
從QPQ處理的工藝過程可見，第一程序就是液體滲氮（或液體氮碳共滲），只不過是采用的冷卻方式必須是氧化鹽浴冷卻。第二程序是滲層表面拋光（或研磨），工件經過鹽浴處理后的表面不可避免地存在粗糙、多孔的顯微層，經過機械拋光或研磨后，改善了表面的光潔度，這時的耐腐蝕性能可能略有下降。第三程序是拋光后的工件表面在氧化鹽浴中受到氧化，這時的耐腐蝕性能顯著提高。
QPQ處理及其他不同的表面處理狀態(tài)在鹽霧試驗時的耐腐蝕效果見表7-11。
由此可認為，QPQ處理所以得到廣泛應用，是由于其氮化（或氨碳共滲）并在氧化鹽浴中冷卻，可獲得高的表面硬度、耐磨性能、耐疲勞性能和拋光后再氧化獲得的高耐腐性能的優(yōu)良效果。
1. QPQ處理工藝
如前所述，QPQ處理主要有以下過程。
a. 液體滲氮（或液體氮碳共滲）
液體滲氮或液體氮碳共滲工藝方法、效果及可能出現的缺陷參見本章液體氮碳共滲的有關內容。
b. 滲后冷卻
QPQ處理中滲氮或氮碳共滲工序中的冷卻方式必須采用氧化鹽浴冷卻。
氧化鹽是一種強堿性鹽，pH值為12~12.5,熔化后的鹽浴具有強烈的氧化性。
氧化鹽的熔點不大于300℃,使用溫度在350~400℃之間。工件在氧化鹽浴中的保持時間，依據工件大小或多少控制在15~30min 即可。
在氧化鹽浴中保持后，可依據工件的情況，采用空冷或水冷。
工件氧化后，在表面形成Fe3O4薄膜。
c. 工件的表面拋光
液體滲氮或液體氮碳共滲后并經氧化鹽浴冷卻的工件，采用機械方法對表面進行拋光或研磨，將工件表面粗糙度提高至R.0.09~0.15μm即可。
d. 氧化
經機械拋光或研磨后的工件放入氧化鹽浴中再氧化。
氧化鹽浴與氮化冷卻鹽浴相同，保持溫度在350~400℃,
保持時間可短一些，一般在5~10min.
2. QPQ處理生產中的相關問題
要進行QPQ處理的工件，也應有預先的熱處理、滲氮（或氨碳共診）前的表面清理、預熱、處理后的清洗、烘干和浸油程序，這些程序的具體要求可參見本章液體氮碳共滲的相關內容。
同樣，不銹鋼PQP處理工藝參數及處理后可獲得的滲層效果可參見本章液體氮碳共滲的相關內容。
